1.純水機(jī)  型號(hào)：HAD-SE20

HAD-SE20純水機(jī)用自來(lái)水作為水源，集合微濾、活性炭吸附、反滲透、離子交換、紫外光氧化、濾等，把水中的離子、熱源、有機(jī)物、顆粒物、微生物、細(xì)菌等雜質(zhì)去除，以此制取可以達(dá)到實(shí)驗(yàn)要求純度的純水，應(yīng)用于等院校、研究院所、業(yè)系統(tǒng)以及療行業(yè)等。

HAD-SE20性能點(diǎn)
1、具有電源示，泵浦作示,低壓示及系統(tǒng)沖洗示能。
2、采用口離子過(guò)濾膜及壓、靜音純水泵，運(yùn)行質(zhì)量更可靠，適用水質(zhì)更廣泛；
3、具有系統(tǒng)沖洗能：每次開(kāi)機(jī)制水前，自動(dòng)沖洗30秒后，系統(tǒng)開(kāi)始制水；
4、具有系統(tǒng)保護(hù)能：當(dāng)水壓過(guò)低或無(wú)水時(shí)，設(shè)備自動(dòng)停機(jī)，水源來(lái)水時(shí)設(shè)備自動(dòng)開(kāi)機(jī)；
5、RSE系列具有在線(xiàn)水質(zhì)監(jiān)測(cè)能，可實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)水水質(zhì)（位于儀器上方，能檢測(cè)區(qū)附近，為數(shù)碼管示）、RO水水質(zhì)水溫以及純水水質(zhì)水溫。

水要求 城市自來(lái)水；TDS<200ppm；水壓>0.1Mpa；水溫：5-45℃

純
水
水
質(zhì) 電導(dǎo)率 0.3us/cm  ( 25℃)(優(yōu)于實(shí)驗(yàn)室二用水)
 PH值（25℃） 要求：無(wú)；
 可氧化物（以O(shè)計(jì)） 要求：≦0.08mg/L；檢驗(yàn)結(jié)果：≦0.08mg/L
 蒸發(fā)殘?jiān)?05±2℃） 要求：≦1.0mg/L；檢驗(yàn)結(jié)果：0.7mg/L
 檢驗(yàn)依據(jù)： GB/T6682-2008，

術(shù)
規(guī)
格 電源/率 25W
 產(chǎn)水水量 20L/h   
 尺寸/重量 400*430*500（mm） /30KG
控
制
系
統(tǒng) 操作模式顯示 電源、缺水、沖洗、滿(mǎn)水、水水質(zhì)監(jiān)測(cè)、RO水質(zhì)水溫、UP水質(zhì)水溫等；
 安性能 無(wú)水或水壓低自動(dòng)入待機(jī)狀態(tài)，系統(tǒng)滿(mǎn)水（恒壓）入待機(jī)狀態(tài)；

純化
系統(tǒng) 預(yù)處理單元 外置軟化過(guò)濾器（原水硬度較的地方建議選配）；1μm深層PP濾芯*2+活性炭濾芯
 RO反滲透單元 美原裝RO反滲透膜/膜組 ；
 后置純化單元 純化柱
標(biāo)準(zhǔn)配置 主機(jī)+附件包
注：1、水水質(zhì)影響出水質(zhì)量和濾柱的使用壽命；2、源水水質(zhì)較差（TDS大于200ppm）時(shí)，RO純水水質(zhì)會(huì)降至10μs/c㎡以上；3、原水水質(zhì)TDS>500時(shí)，建議選用軟水器；

2.冷卻水循環(huán)機(jī)/循環(huán)冷卻水機(jī)/手套箱配 型號(hào):HAD-X300

HAD系列冷卻循環(huán)裝置采用非啟停制冷，其和制能夠提供行業(yè)的標(biāo)和可靠性，是度和穩(wěn)定的冷卻設(shè)備。 HAD系列冷卻循環(huán)裝置是封閉制冷系統(tǒng)，結(jié)合PID控制，制冷快，溫度穩(wěn)定，對(duì)些要求恒溫冷卻的設(shè)備。 HAD系列冷卻循環(huán)裝置應(yīng)用域廣泛，應(yīng)用于各類(lèi)實(shí)驗(yàn)室和域，滿(mǎn)足不同的冷卻恒溫要求，可以配套量熱儀、折光儀、密度檢測(cè)儀、電泳槽、激光器、透射掃描電鏡、真空鍍膜機(jī)等。

型號(hào):HAD-X300

溫度范圍:5-35

控溫度:正負(fù)0.1

體式:體式

制冷量(20度時(shí)):300W

循環(huán)泵大壓力bar:0.8

循環(huán)泵大量L/MIN:15

水箱容積:4L

儀器重量:30kg

外型尺寸:W*D*H 230×475×475

恒溫磁力攪拌器/磁力攪拌儀 型號(hào):HAH01-3

HAH01-3恒溫磁力攪拌器 點(diǎn)

　　點(diǎn)：無(wú)刷直電機(jī)驅(qū)動(dòng)，強(qiáng)磁力，適用于粘度大容量液體攪拌， 恒溫型，配電接點(diǎn)水銀溫度計(jì)可自動(dòng)控溫，加熱率無(wú)可調(diào)，電壓表顯示加熱電壓

3.HAH01-3恒溫磁力攪拌器主要參數(shù)

電　　源：AC220V±10% 50Hz
攪拌轉(zhuǎn)速：100～1800 r/min
大攪拌容量：10000ml
電機(jī)轉(zhuǎn)矩：25mN·m
加熱率：800W內(nèi)可調(diào)
加 熱 盤(pán)：￠175mm
控溫范圍：室溫～250℃
控溫度：±1℃
外形尺寸：280×175×145（mm）
注：電接點(diǎn)水銀溫度計(jì)用戶(hù)自備

4.防感溫火災(zāi)探測(cè)器/感溫探測(cè)器 型號(hào)：HAD-W-1

產(chǎn)品描述    

   HAD-W-1防點(diǎn)型感溫火災(zāi)探測(cè)器（簡(jiǎn)稱(chēng)探測(cè)器）為非編碼開(kāi)關(guān)型（繼電器輸出）探測(cè)器，適用于安裝在含有ⅡCT6溫度組別的炸性氣體環(huán)境場(chǎng)所，可以和內(nèi)外何廠(chǎng)家的火災(zāi)報(bào)警控制器配套使用。本產(chǎn)品符合GB3836系列標(biāo)準(zhǔn)的要求，經(jīng)的檢測(cè)機(jī)構(gòu)鑒定并取得了防合格證。

   本探測(cè)器是利用熱敏元件對(duì)溫度的敏感性來(lái)檢測(cè)環(huán)境溫度，別適用于發(fā)生火災(zāi)時(shí)有劇烈溫升的場(chǎng)所。本探測(cè)器已配接安柵，采用殊處理，作性能穩(wěn)定可靠。本探測(cè)器結(jié)構(gòu)新穎、外形美觀(guān)、與感煙探測(cè)器配合使用更能可靠探測(cè)火災(zāi)。

參數(shù)

1、 防形式：本安隔復(fù)合式
2、 防標(biāo)志：Exd（ib）IICT6
3、 作電壓：DC20V~DC28V
4、 監(jiān)視電：≤0.6mA
5、 報(bào)警電：10mA≤I≤30mA
6、 報(bào)警復(fù)位：斷電重啟
7、 報(bào)警溫度：60℃
8、 觸點(diǎn)容量：1A
9、 報(bào)警確認(rèn)燈：紅色，正常監(jiān)視時(shí)不亮，報(bào)警時(shí)常亮
10、保護(hù)面積：空間度為6~12米時(shí)，保護(hù)面積為80平米；空間度在6米以下時(shí)，保護(hù)面積為60平米
11、使用環(huán)境：溫度：－20℃～＋50℃；相對(duì)濕度：≤95％ 不結(jié)露； 大氣壓力：80kPa～110kPa
12、線(xiàn)口徑：2-M22x1.5(線(xiàn)口的數(shù)量和大小可以根據(jù)用戶(hù)要求）
13、重 量：1.2kg

5.恒溫型 浸漬提拉鍍膜機(jī) 垂直提拉機(jī) 提拉涂膜機(jī) 鍍膜機(jī) 型號(hào):HAD-100H

. 產(chǎn)品簡(jiǎn)介
    浸漬提拉鍍膜機(jī)是門(mén)為液相（別是sol-gel法）制備薄膜材料的研究作而，對(duì)不同液體通過(guò)浸漬提拉生長(zhǎng)薄膜。提拉速度、提拉度、浸漬時(shí)間、鍍膜次數(shù)（多次多層鍍膜）、鍍膜間隔時(shí)間均連續(xù)可調(diào)、控制。對(duì)鍍膜基質(zhì)無(wú)殊要求，片狀、塊狀、圓柱狀等均可鍍膜。運(yùn)行穩(wěn)定、作時(shí)液面無(wú)振動(dòng)，可大提實(shí)驗(yàn)度與實(shí)驗(yàn)效率。
    適用于硅片、玻璃、陶瓷、金屬等固體材料表面涂覆。應(yīng)用于研究、產(chǎn)品。

二. 產(chǎn)品點(diǎn)
1. 采用自主的的傳動(dòng)裝置；
2. 關(guān)鍵零件來(lái)自中中中國(guó)臺(tái)灣及德口，確保運(yùn)行度及穩(wěn)定性；
3. 多參數(shù)自動(dòng)控制；提拉速度連續(xù)可調(diào)；
4. 鍍膜過(guò)程采用4.3寸液晶觸摸屏使控制更方便；恒溫場(chǎng)溫度LCD液晶顯示可編程控溫，。
5. 運(yùn)行時(shí)，各項(xiàng)參數(shù)實(shí)時(shí)顯示，更直觀(guān)了解鍍膜程；
6. 、低速均運(yùn)行平穩(wěn)，鍍膜時(shí)液面無(wú)振動(dòng)，使成膜更均勻；
7. 整個(gè)鍍膜過(guò)程在恒溫溫度場(chǎng)內(nèi)行，可控溫，溫度均勻性好。
8. 殊的平口型夾具，兩面均勻夾持樣片，不會(huì)夾壞樣片；（單點(diǎn)螺絲緊樣片的夾持方式容易夾壞樣片）

三. 參數(shù)
1. 提拉速度范圍：1～5000 μm/s，小分辨率1μm/s；
2. 適用基片尺寸：MIN 5×5 mm，MAX 100×100 mm，厚度MAX 10mm；
3. 浸漬時(shí)間：1～1200 s，小分辨率1s；
4. 鍍膜次數(shù)：1～20次，少1次；
5. 每次鍍膜間隔時(shí)間：1～3600 s，小分辨率1s；
6. 恒溫溫度：RT+10～200℃,溫度分辨率0.1℃；
7. 溫度波動(dòng)度≤±0.2℃；
8. 恒溫場(chǎng)內(nèi)尺寸：340×320×320 mm（W×D×H）；
9. 電源：220V/50Hz

 溫馨提示：以上產(chǎn)品資料和圖片都是按照順序相對(duì)應(yīng)的